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XJP607A工业显微镜是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业需求而开发的。作为高级显微镜用户在使用时能够体验其超强性能,可广泛应用于半导体、FPD、电路封装、电路基板、材料、铸件/金属/陶瓷部件、精密模具的检测,可观察较厚的标本。稳定、高品质的光学系统使成像更清晰,衬度更好。符合人机工程学要求的设计,使您在工作中感到舒适和放松。
技术规格
观察头
30°铰链式三目(50mm-75mm)
目镜
WF10×/25mm
WF10×/20mm,带0.1mm十字分划板
物镜
平场无限远复消色差长工作距离物镜:5×/0.15/W.D.35mm、
10×/0.28/W.D.35mm、20×/0.40/W.D.20mm、50×/0.55/W.D.13mm
转换器
可调中心四孔转换器
平台
双层移动平台
平台尺寸: 190mm×140mm
移动范围:50mm×40mm
滤色片
插板式滤色片(绿、蓝、中性)
调焦
粗、微动同轴调焦,采用齿轮齿条传动机构 微动格值0.002mm
光源
带孔径光栏和视场光栏,卤素灯12V/50W,AC85V-230V,亮度可调节
偏光装置
检偏镜可360度转动,起偏镜、检偏镜均可移出光路
检测工具
0.01mm测微尺
可供附件
二维测量软件
专业金相图像分析软件
测微目镜
130万、200万、300万、500万像素CMOS电子目镜
卤素灯12V/100W
精密载物台:X-Y行程25mm×25mm,移动精度<5um,数显手轮最小值:0.1um,360°旋转盘
摄影装置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75×
物镜: 2×
压平机
彩色1/3寸CCD 520条线
特点说明
1.  采用了UIS高分辨率、长工作距离无限光路校正系统的物镜成像技术。
2.  拓展了物镜的复用技术,无限远物镜与所有观察法相兼容包括明视野法、偏光法,并在每一观
察法中均提供高清晰的图像质量。
3.  采用非球面Kohler照明,增加观察亮度。
4.  WF10×(Φ25)超大视野目镜。
测微目镜:
测微目镜是各种光学测量仪器的附件,装配在适当的光学仪器上,可以作各种用途的测量。如测定孔距,各种刻线及键槽等的宽度和长度、金属表面质量、光谱带宽、纤维织物密度和野外标本等,也可以作某些显微硬度计的附件来测量压痕及划痕尺寸。